AS Published on Tuesday 5 April 2022 - n° 400 - Categories:R&D

NexWafe veut lancer son procédé de plaquettes produite par charge gazeuse

Issu des études de Fraunhofer ISE, NexWafe a développé un procédé de plaquettes de silicium monocristallin produites directement à partir d'une charge gazeuse grâce à son procédé EpiWafer. Il supprime les étapes intermédiaires

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